JC/T2068-2011鍍膜玻璃生產(chǎn)規(guī)程內(nèi)容是什么?百檢網(wǎng)檢測(cè)范圍廣泛，可根據(jù)客戶需求選擇合適的檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)及項(xiàng)目安排檢測(cè)，全國(guó)近千家合作實(shí)驗(yàn)室，CMA/CNAS資質(zhì)齊全，可就近安排寄樣檢測(cè)。今天百檢網(wǎng)就給大家簡(jiǎn)單介紹一下JC/T2068-2011鍍膜玻璃生產(chǎn)規(guī)程標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容。

1 范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了鍍膜玻璃生產(chǎn)的術(shù)語(yǔ)和定義、分類(lèi)、材料、制作、成品檢驗(yàn)以及包裝、標(biāo)志、運(yùn)輸和貯存。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于磁控濺射鍍膜玻璃和在線化學(xué)氣相沉積鍍膜玻璃的生產(chǎn)。

2 規(guī)范性引用文件

下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，僅所注山期的版木適用于木文件。凡是不注日期的引用文件，其*新版本(包括所有的修改單)適用于木文件。

GB/T 728-1998 錫錠

GB/T 3620.1-2007 鈦及鈦合金牌號(hào)和化學(xué)成分

GB/T 6382.1 平板玻璃集裝器具 架式集裝器及其試驗(yàn)方法

GB/T 6382.2 平板玻璃集裝器具 箱式集裝器及其試驗(yàn)方法

GB/T 20878-2007 不銹鋼和耐熱鋼 牌號(hào)及化學(xué)成分

GB/T 18915.1 鍍膜玻璃 第1部分：陽(yáng)光控制鍍膜玻璃

GB/T 18915.2 鍍膜玻璃 第2部分：低輻射鍍膜玻璃

JC/T 513 平板玻璃木箱包裝

3 術(shù)語(yǔ)和定義

下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件。

3.1 靶材 sputtering target

被高速荷能粒子轟擊的，可沉積或反應(yīng)成膜的固體材料。

3.2 磁控濺射鍍膜 magnetron sputtering coating

真空環(huán)境中，在電場(chǎng)及磁場(chǎng)的作用下，靶材被氣體輝光放電產(chǎn)生的荷能離子轟計(jì)，粒子從其表面射出，在被鍍基體表面沉積或反應(yīng)成膜的工藝過(guò)程。

3.3 鍍膜前驅(qū)體 coating precursor

含有構(gòu)成薄膜成分的化學(xué)物質(zhì)，可通過(guò)化學(xué)反應(yīng)在高溫基體表面形成膜層。

3.4 化學(xué)氣相沉積鍍膜 chemical vapor deposition coating

將鍍膜前驅(qū)體施加到高溫基體表面，在氣相-固相界面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，在基體表面沉積反應(yīng)成膜的工藝過(guò)程。

3.5 工藝氣體 process gas

磁控濺射過(guò)程中用于產(chǎn)生等離子體或發(fā)生特定化學(xué)反應(yīng)的一種或兒種氣體?；瘜W(xué)氣相沉積過(guò)程中鍍膜前驅(qū)體氣體、反應(yīng)氣體及載體氣體的總稱(chēng)。

3.6 鍍膜反應(yīng)器 coating reactor

在化學(xué)氣相沉積鍍膜過(guò)程中，將工藝氣體噴射到基體表面的特定裝置。

3.7 陰* cathode

在磁控濺射鍍膜工藝中，承載靶材實(shí)現(xiàn)磁控濺射的裝置。裝置內(nèi)包括磁性材料、冷卻裝置、屏蔽裝置等。

3.8 可熱加工的鍍膜玻璃 heat treatable coated glass

指熱加工后膜層性能穩(wěn)定，各項(xiàng)指標(biāo)仍符合柑關(guān)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)或行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的鍍膜玻璃。

4 分類(lèi)

4.1 按產(chǎn)品性能分為陽(yáng)光控制鍍膜玻璃和低輻射鍍膜玻璃。

4.2 按生產(chǎn)工藝分為離線磁控濺射鍍膜和在線化學(xué)氣相沉積鍍膜。

5 材料

5.1 磁控濺射鍍膜玻璃生產(chǎn)所用材料

磁控濺射鍍膜玻璃生產(chǎn)所用材料包括玻璃、靶材、工藝氣體、保護(hù)膜、干燥劑等，各種材料均應(yīng)符合相應(yīng)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)或行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的要求以及生產(chǎn)工藝要求。材料應(yīng)有合格證，進(jìn)口材料應(yīng)有相關(guān)證明。

5.1.1 玻璃

磁控濺射鍍膜玻璃可選用平板玻璃、防火玻璃、鋼化玻璃、夾層玻璃、半鋼化玻璃、壓花玻璃、超白浮法玻璃等作為基體材料。

5.1.2 靶材

磁控濺射鍍膜⊥藝常用靶材可參見(jiàn)附錄A。

5.1.3 工藝氣體

工藝氣體包括高純度的氬氣、氮?dú)?、氧氣等?/p>

5.1.4 其他材料

包括保護(hù)膜、干燥劑、隔離粉、珍珠棉、惰性氣體等。

5.2 化學(xué)氣相沉積鍍膜玻璃材料

化學(xué)氣相沉積鍍膜玻璃生產(chǎn)所用材料包括玻璃、鍍膜前驅(qū)體、工藝氣休等。各種材料均應(yīng)符合相應(yīng)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)或行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的要求，尚無(wú)相應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)的材料應(yīng)符合設(shè)計(jì)要求。材料應(yīng)有合格證，進(jìn)口材料應(yīng)有相關(guān)證明。

5.2.1 玻璃

化學(xué)氣相沉積鍍膜玻璃可選用平板玻璃、超白浮法玻璃等作為材料。

5.2.2 鍍膜前驅(qū)體

化學(xué)氣相沉積鍍膜工常用的鍍膜前驅(qū)體可參見(jiàn)附錄B。

6 制作

6.1 一般要求

6.1.1 鍍膜玻璃生產(chǎn)企業(yè)應(yīng)具備滿足生產(chǎn)要求的設(shè)備，并定期進(jìn)行維護(hù)保養(yǎng)。

6.1.2 鍍膜玻璃生產(chǎn)企業(yè)應(yīng)具備必要的量具和檢測(cè)設(shè)備，并定期進(jìn)行計(jì)量檢定。應(yīng)具備的膜層檢測(cè)設(shè)備有在線分光光度計(jì)、離線分光光度計(jì)、耐磨試驗(yàn)機(jī)和方塊電阻測(cè)量?jī)x。宜具備輻射率測(cè)定儀、紅外分光光度計(jì)、霧度儀、臺(tái)階儀、橢偏儀等。

6.1.3 從事鍍膜玻璃生產(chǎn)的作業(yè)人員，應(yīng)具備相應(yīng)的專(zhuān)業(yè)技能并經(jīng)過(guò)安全操作培訓(xùn)，持證上崗。

6.1.4 鍍膜玻璃的生產(chǎn)應(yīng)具備工藝操作規(guī)程、作業(yè)指導(dǎo)書(shū)、安全操作規(guī)程、應(yīng)急方案等。

6.1.5 磁控濺射鍍膜的基片宜選用近期生產(chǎn)的玻璃，必要時(shí)應(yīng)進(jìn)行拋光處理。

6.1.6 磁控濺射鍍膜玻璃生產(chǎn)應(yīng)具備上下片臺(tái)、清洗機(jī)、磁控濺射裝置、生產(chǎn)監(jiān)控、在線檢測(cè)、循環(huán)冷卻水系統(tǒng)、水處理系統(tǒng)等裝置。

6.1.7 磁控濺射鍍膜工藝室的基礎(chǔ)真空度宜優(yōu)于5×10-3Pa。

6.1.8 鍍膜面宜為玻璃的非錫面。

6.1.9 清洗用去離子水電阻宜大手5MΩ。

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